Метод катодного распыления

Метод катодного распыления - подразделяется на два:

а/.метод тлеющего разряда.
Проводится при давлениях от 10-2 до 1 мм рт.ст. В камере зажигается самостоятельный тлеющий газовый разряд. Ионы плазмы устремляются на эффективный катод и бомбардируют его, энергии ионов не достаточно для полного разрушения кристаллической решетки. Однако энергия соударения передается решетке твердого тела и возбуждает атомы, находящиеся в узлах решетки, процесс передачи энергии возбуждения волнообразен, из-за суперпозиции отдельные атомы получают энергию больше энергии связи, в результате чего они покидают твердое тело, т.е. распыляются

j- плотность тока тлеющего разряда
P - давление
d - расстояние катод-подложка
К - состояние поверхности мишени
Достоинством метода является возможность переносить на подложку стехиометрический состав распыляемого вещества.
б) реактивное распыление - подобно катодному распылению только через натекатель в камеру вводится газ, реагирующий с распыляемым веществом, следовательно напыление осуществляется в активной среде с помощью химического реагента.
7) Осаждение - седиментация - такой метод применяется для покрытий внутренних поверхностей трубок, путем изготовления суспензии вещества, в которую вводятся необходимые добавки, например жидкое стекло. Под действием сил тяготения частицы суспензии осаждаются на покрываемое изделие.